公司名稱：上海依肯機械設備有限公司
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 混懸液混合高速膠體磨，針劑型膠體磨，粉針劑管線式膠體磨，注射劑小試型膠體磨，原料藥機械設備

  混懸液型藥劑一般系指不溶性藥物顆粒分散在液體分散媒內(nèi)所形成的不均勻分散系的液體藥劑。對混懸劑的要求是混懸的微粒應細微均勻、其速度不影響劑量的正確量取；稍加振搖即能均勻分散；在長期貯存中粒子大小保持不變；易傾倒；外形美觀，味道可口并具有一定的防腐能力；外用混懸劑應易于涂布，不易流散，能快速干燥，干后能形成不易擦掉的保護膜。混懸劑的微粒一般在1 μ m以上，混懸劑在醫(yī)療上應用較廣，在口服、外用、注射、滴眼、氣霧以及長效等劑型中都有應用。

為了增加混懸劑的物理穩(wěn)定性，常采用高速膠體磨減小藥物粒徑，以及在制備時需加入能使混懸劑穩(wěn)定的附加劑。

 IKN混懸液型藥劑高速膠體磨與國nei膠體磨區(qū)別：

1，

結(jié)構(gòu)設計：國nei膠體磨結(jié)構(gòu)設計采用仍為臥式設計或者是目前流行的分體式設計

上海IKN設備結(jié)構(gòu)設計采用的事目前zui流行的分體結(jié)構(gòu)

2，

zui大線速度：國nei膠體磨設備能達到的zui大線速度大約在10-15M/S

        在相同直徑磨頭下，上海IKN設備線速度可達

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

3，

zui大作用力：國nei膠體磨作用力大約在14293-215440 S-1

上海IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而對CMO模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無線小，但是由于高速的運轉(zhuǎn)，造成軸的振動，需要一定的間歇，作用力可以無線大，但實際上比膠體磨要好。這是粉碎研磨的zhong要因素，相當于國nei膠體磨的2-3倍。

4，

轉(zhuǎn)速：國nei膠體磨50HZ時轉(zhuǎn)速一般為3000rpm

上海IKN設備在50HZ時設備轉(zhuǎn)速高達7890/13789RPM ，可以通過變頻調(diào)速，同時可通過皮帶加速 依肯的軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是國nei膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小)。

CMSD 2000系列藥劑混懸劑膠體磨設備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的te性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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