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| MKZ-T4B微波真空高溫爐 |
| 關鍵詞：微波真空高溫爐 真空高溫爐 高溫爐 |
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公司名稱：青島邁可威微波設備有限公司 |
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詳細說明 |
| 設備名稱 MKZ-T4B微波真空高溫爐 適用范圍 真空與氣氛狀態下，陶瓷材料的合成與燒結；無機或金屬材料的燒結，熱處理，分體煅燒；無氧或者氣體保護狀態下，有機質的熱解碳化；真空干燥，濃縮，熱固化，熱處理；運用氧氣氣氛環境，實現化學分析中的灰化處理。 MKZ-T4B微波真空高溫爐通用功能 1、采用不銹鋼真空箱體設計，既能承擔負壓，又可減少反應氣氛的腐蝕 2、允許氣氛環境：空氣、氮氣、氬氣、氧氣等多種氣體 3、適合不含水的高溫加熱，真空度可達-0.099Mpa(青島海拔高度測得數據) 4、進口紅外測試儀，可以不接觸測試物料溫度，避免微波場干擾 5、高溫加熱區容積：8L,約200×200×200mm（寬×深×高） 6、根據物料特性，*高溫度可達到1600℃，長時間連續工作溫度100~1450℃ 7、采用PLC自動控制，溫度和功率均智能可控，液晶對話界面 8、內置高溫換熱器，適合高溫氣體排除 9、懸臂門，多層防護，杜絕微波泄漏和氣體密封 10、門體多重連鎖結構，開門斷電，保護操作人員，微波泄漏量符合國標 規格參數
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